雅虎新闻（11月中国光刻机进口增长10倍）

但据阿斯麦首席执行官温宁克称，大多数中国客户不会受到这些变化的影响，因为他们主要关注成熟的制程技术，如28纳米及更老的制程技术。

这些光刻系统的主要供应商是ASML，而这些设备中的大多数不需要美国或荷兰政府的出口许可证。在美国试图限制中国获得尖端芯片制造技术的同时，这种大量进口也在同步发生。

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今年11月，中国共引进了42套光刻系统，价值8.168亿美元。16套光刻系统来自荷兰，其总价值为7.627亿美元，比前一年增长了10倍。此外，今年10月份中国从荷兰进口了21套光刻机系统。日本的佳能和尼康也向中国出口了不少光刻设备。

分析人士对中国进口飙升的原因有不同的看法。一些人认为，这可能是因为在美国最新出口规定生效之前，中国大量进口光刻机以规避潜在的进一步管制风险。与此同时，中国最大的芯片制造商中芯国际(SMIC)将其2023年的资本支出预算上调至75亿美元。

尽管中国自己也在推动晶圆厂设备的研发，但中国与ASML、佳能(Canon)和尼康(Nikon)的合作表明，中国在半导体生产方面对外国技术的依赖程度仍然很高。《南华早报》的报告称，截至2021年，中国晶圆厂中只有不到5%的光刻系统是在中国制造的。

据《南华早报》援引雅虎报道，荷兰最近对中国的晶圆厂设备销售大幅增长，今年11月的销售额增长了1050%。这表明中国仍在努力获取先进的晶圆厂设备，以建设自己的先进半导体产业。

美国最近改变了其出口规则，特别是与某些包含美国技术的深紫外光刻机相关的“最低限度”规则。这一变化加大了阿斯麦将其Twinscan NXT:1980Di系统运往中国一些先进芯片制造商的难度。